Рынок трихлорсилана сильно вырос

Трихлорсилан (TCS или SiHCl3) получают в высокотемпературном реакторе под давлением следующим образом: Si 3 HCl SiHCl3 H2 Si 3 SiCl4 2 H2 4 SiHCl3. Затем TCS направляют в реактор CVD (химического осаждения из паровой фазы). В процессе Сименса «стартовые» стержни или шпильки из высокочистого кремния подвергаются воздействию трихлорсилана при 1150 ° C в реакторе CVD. Газ трихлорсилан разлагает и дополнительно осаждает чистый кремний на стержнях в реакторе CVD, увеличивая их в соответствии с химическими реакциями, такими как: 2 SiHCl3 H2 Si SiCl4 2 HCl (при 1100 C / 6 бар изб.) Кремний, полученный в этой реакции, называется поликристаллическим кремнием ( ПКС). SiCl4 HCl затем «рециркулируют» и возвращают на установку TCS посредством преобразования SiCl4 (в конвертере): катализатор SiCl4 H2 HCl SiHCl3.

Во всех вышеперечисленных реакциях мы отмечаем использование или образование HCl и H2. Подпиточный безводный газ HCl необходим в реакторе TCS из-за неполной конверсии и рециркуляции SiCl4 и TCS на этапе рециркуляции, а это означает, что часть хлора образуется в виде отходов в общем процессе и направляется в другое место. AHCl должен быть сухим и иметь высокую чистоту, но он может содержать H2, который также является перерабатываемым побочным продуктом.